Що таке etch?

Технологія травлення напівпровідників, як випливає з назви, — це процес вибіркового видалення матеріалів з поверхні напівпровідника для створення певних візерунків або структур. Це важливий процес у виробництві напівпровідникових пристроїв, зокрема мікропроцесорів, пристроїв пам’яті та датчиків тощо.

Процес травлення передбачає використання хімікатів або плазми для видалення окремих ділянок поверхні матеріалу. У виробництві напівпровідників він використовується для створення точних характеристик на поверхні кремнієвих пластин або інших підкладок. Процес можна умовно розділити на дві категорії: вологе травлення та сухе травлення.

Мокре травлення

Мокре травлення — це метод травлення, який передбачає занурення напівпровідникового матеріалу в хімічний розчин для розчинення небажаних ділянок поверхні матеріалу. Використовувана хімічна речовина зазвичай є кислотною, основною або окислювальною речовиною, яка реагує з матеріалом. Мокре травлення — це простий і недорогий процес, який можна використовувати для створення високоякісних рівномірних малюнків на поверхні напівпровідникової підкладки.

Однак він має деякі обмеження, такі як вимога відповідності розчину для травлення властивостям матеріалу та труднощі з керуванням напрямком травлення.

Сухе травлення

Сухе травлення — це більш точний і складний метод травлення, який використовує плазму для видалення матеріалу з поверхні. Цей процес частіше використовується у виробництві напівпровідників, ніж вологе травлення, завдяки його здатності створювати більш точні та однорідні візерунки.

Плазма, яка використовується в процесах сухого травлення, може бути або реактивним газом, або сумішшю газів, таких як кисень, хлор або фтор, які іонізуються, а потім реагують з матеріалом, відбиваючи атоми з поверхні.

Техніка сухого травлення забезпечує більший контроль над напрямком і глибиною травлення, дозволяючи формувати більш складні та заплутані візерунки. Він також здатний досягти високого співвідношення сторін, яке є співвідношенням глибини вигравіруваного елемента до його ширини.

Таким чином, технологія травлення напівпровідників відіграє важливу роль у виробництві напівпровідникових приладів. Для створення точних візерунків на поверхні напівпровідникових підкладок використовуються як методи мокрого, так і сухого травлення, причому сухе травлення використовується більш широко завдяки його вищій точності та здатності створювати більш складні структури.